| автор: | Li K. Li X. Yu Y. Zhou W. Ren Z. Su X. Qian H. |
| источник: | JOURNAL OF ANALYTICAL ATOMIC SPECTROMETRY |
| заглавие: | Discharge character and optical emission in a laser ablation nanosecond discharge enhanced silicon plasma |
| год издания: | 2013 |
| том: | 28 |
| выпуск: | 5 |
| страницы: | 702-710 |
| ссылка на полный текст: | http://dx.doi.org/10.1039/c3ja30355a |
| рубрика: | FO4.2.4 |
| Автор записи: | admin |
| Дата/время последнего изменения: | 2019-11-28 00:20:53 |
Вы не можете изменять эту запись.