| автор: | Smurov I. Fominski V. Y. Nevolin V. N. |
| источник: | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
| заглавие: | Energy and dose characteristics of ion bombardment during pulsed laser deposition of thin films under pulsed electric field |
| год издания: | 2004 |
| том: | 96 |
| выпуск: | 4 |
| страницы: | 2374-2380 |
| ссылка на полный текст: | http://dx.doi.org/10.1063/1.1767982 |
| рубрика: | FO4.2.1 |
| Автор записи: | admin |
| Дата/время последнего изменения: | 2011-12-05 14:30:03 |
Вы не можете изменять эту запись.