| автор: | Chang H. Hsu C. |
| источник: | PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING |
| заглавие: | Plasmas in Saline Solution Sustained Using Bipolar Pulsed Power Source: Tailoring the Discharge Behavior Using the Negative Pulses |
| год издания: | 2013 |
| том: | 33 |
| выпуск: | 3 |
| страницы: | 581-591 |
| ссылка на полный текст: | http://dx.doi.org/10.1007/s11090-013-9447-7 |
| рубрика: | FO4.2.4 |
| Автор записи: | admin |
| Дата/время последнего изменения: | 2019-11-28 00:20:53 |
Вы не можете изменять эту запись.