| автор: | Saito K. Inoue H. Nakayama T. Kojima Y. Ando H. Takekoshi H. Nakayamada N. Kamikubo T. Nishimura R. Yashima J. Anpo A. Nakazawa S. Iijima T. Ohtoshi K. Anze H. Katsap V. Golladay S. Kendall R. |
| источник: | PHOTOMASK AND NEXT-GENERATION LITHOGRAPHY MASK TECHNOLOGY XXI |
| заглавие: | EBM-9000: EB mask writer for product mask fabrication of 16nm half-pitch generation and beyond |
| год издания: | 2014 |
| том: | 9256 |
| страницы: | 925607 |
| ссылка на полный текст: | http://dx.doi.org/10.1117/12.2065230 |
| рубрика: | FO4.2.4 |
| Автор записи: | admin |
| Дата/время последнего изменения: | 2019-11-28 00:20:53 |
Вы не можете изменять эту запись.