| автор: | Saito K. Inoue H. Nakayama T. Kojima Y. Ando H. Takekoshi H. Nakayamada N. Kamikubo T. Nishimura R. Yashima J. Anpo A. Nakazawa S. Iijima T. Ohtoshi K. Anze H. Katsap V. Golladay S. Kendall R. |
| источник: | PHOTOMASK TECHNOLOGY 2014 |
| заглавие: | EBM-9000: EB mask writer for product mask fabrication of 16nm half-pitch generation and beyond |
| ссылка на полный текст: | http://dx.doi.org/10.1117/12.2065551 |
| рубрика: | FO4.2.4 |
| Автор записи: | admin |
| Дата/время последнего изменения: | 2015-04-06 17:22:55 |
Вы не можете изменять эту запись.